绿水青山就是金山银山
高效无机高分子絮凝剂，通过电中和与吸附桥联作用快速去除水中悬浮物、胶体及重金属。矾花密实沉降快，适应pH范围广，兼具除磷、降COD功能。广泛应用于饮用水净化、工业废水处理（印染/造纸/冶金）、市政污水及污泥脱水领域，助您以低成本实现水质达标。
高分子聚合物絮凝剂，按离子特性分为阴/阳/非离子型。阴离子型适用于高浊度废水絮凝及矿山洗煤污泥脱水；阳离子型专攻城市污水与含油污泥调理；非离子型耐酸性强，用于酸性废水处理及油田三次采油。显著提升固液分离效率，降低处理能耗
亚硫酸氢钠是一种强还原性无机化合物，主要用于水处理、食品防腐及工业漂白。高效消除余氯及过氧化物，保护设备免受氧化腐蚀。在食品加工中作为抗氧化剂，抑制果蔬褐变；在纺织印染中用于脱氧漂白，提升织物白度；在废水处理中可还原六价铬等有毒重金属为低毒形态。
反渗透阻垢剂通过螯合钙镁离子、分散微晶并干扰晶格生长，阻止碳酸钙、硫酸钙等垢类在反渗透膜表面沉积，保障膜通量及脱盐率稳定。其耐高盐、广谱阻垢的特性使其广泛应用于海水淡化、高盐废水回用及电子超纯水制备系统，可延长膜寿命2-3倍，降低设备清洗频率，典型添加量为2-6 ppm，需根据水质硬度动态调整
复合碳源由乙酸钠、葡萄糖及微量营养物复配而成，为污水生化处理提供易降解有机碳源，针对性强化反硝化脱氮与生物除磷效率。相比单一碳源，其碳氮比（C/N）更均衡，可提升总氮（TN）去除率15%-30%，适用于市政污水厂碳源不足或工业废水（如化工、制药）的深度脱氮场景，低温环境下仍能维持微生物活性，减少污泥膨胀风险。
杀菌灭藻剂通过季铵盐、异噻唑啉酮等活性成分破坏微生物细胞膜或抑制酶活性，快速杀灭循环水系统中的细菌、藻类及生物粘泥。广泛用于电力、石化行业的冷却塔、管道及储罐，尤其在高温、高pH环境下仍保持稳定性，配合缓蚀剂使用可降低系统腐蚀速率，投加量通常为50-200 ppm，需定期轮换药剂类型以防耐药性产生。
柠檬酸作为天然有机酸，通过螯合金属离子溶解水垢、锈渍，同时具备温和腐蚀性与生物降解性。常用于食品设备清洗、锅炉除垢及化妆品pH调节，在60-80℃热水中除垢效率最佳，与缓蚀剂联用可减少对金属基体的侵蚀，亦可用于废水处理中重金属离子的络合沉淀，环保性优于强酸清洗剂。
消泡剂以聚醚、硅油或矿物油为核心成分，通过降低液膜表面张力促使泡沫破裂，兼具抑泡与破泡功能。适用于造纸、印染、发酵等易产生泡沫的工业流程，在高温、强酸碱体系中仍保持稳定性，添加量仅为0.01%-0.1%，可提升反应釜容积利用率及产品质量，水性/油性配方需根据体系相容性选择。
破乳剂通过电荷中和与界面吸附破坏油水乳液稳定性，实现油、水、固三相高效分离。针对炼油、机械加工等含油废水，聚醚型或阳离子型破乳剂可快速分解乳化油滴，配合气浮或离心设备使油相上浮回收，COD去除率达90%以上，适用于pH 6-9环境，低温条件下需增加聚合氯化铝（PAC）辅助絮凝。
通过螯合钙镁离子、分散垢层并形成磷酸钙保护膜，兼具软水与缓蚀功能。用于锅炉水处理时，可防止硫酸盐结垢并减缓金属腐蚀，与氢氧化钠复配可调节炉水pH至10-12，亦用于食品设备清洗及织物漂白，但需控制磷酸盐排放以避免水体富营养化，建议与反渗透工艺联用实现磷回收。
粉末活性炭凭借高比表面积（800-1200 m²/g）及微孔结构吸附有机物、色素及异味物质，用于饮用水深度处理、工业废水脱色及应急污染事件处置。其对COD、BOD的去除率可达40-70%，投加量通常为10-100 mg/L，需结合混凝沉淀工艺回收炭泥，再生后可重复利用，成本低于颗粒活性炭。
蜂窝活性炭以多孔陶瓷为骨架，具备高透气性（孔密度100-200目）及低压降特性，适用于VOCs废气吸附、空气净化及低浓度大风量处理场景。其甲苯吸附容量≥35%，耐湿性优于颗粒炭，可定制模块化安装，脱附再生后重复使用5-8次，配套催化燃烧设备可实现有机物资源化。
草酸通过强螯合作用溶解铁锈、钙垢，其酸性强于柠檬酸但弱于盐酸，适用于石材清洗、金属表面处理及稀土提炼。在纺织印染中用作漂白剂，可还原染料色素，但高浓度草酸易腐蚀金属且有毒，操作时需穿戴防护设备，废水处理需投加石灰中和生成草酸钙沉淀以降低毒性。
缓蚀阻垢剂通过有机膦酸、聚合物等成分分散垢晶、在金属表面形成吸附膜，同步实现阻垢与缓蚀。适用于循环冷却水系统，可耐受高硬度（Ca²⁺≤1000 mg/L）、高温（≤80℃）工况，延长设备使用寿命3-5年，典型配方含HEDP、PAA等，需定期监测余磷浓度以防菌藻滋生。
醋酸钠作为易降解碳源，在污水脱氮中通过反硝化菌转化为二氧化碳和氮气，提升总氮去除率。其液态产品冰点低（-20℃）、投加便捷，适用于冬季低温污水处理，相比甲醇安全性更高，但过量使用可能导致出水COD波动，常与复合碳源复配以平衡成本与效果。
除氟剂通过离子交换与沉淀吸附去除水中氟离子，适用于高氟地下水（＞1.5 mg/L）及半导体废水处理。其动态吸附容量达8-15 mg/g，可在pH 5-8范围内稳定运行，配合混凝工艺可使氟浓度降至1 mg/L以下，污泥量较传统石灰法减少50%。